日期:2010-08-13 浏览:426 来源:品牌中国网
品牌中国网讯 中国知识产权政策制定者、学者和业界人士呼吁创造自主品牌、专利,降低专有权使用贸易逆差。
第二届品牌中国知识产权高峰论坛9日在京召开,商务部政策研究室处长吴国华认为创造自主品牌刻不容缓。他说:“中国每年购买品牌许可花的钱数额巨大,品牌创造最为重要。”。图为:搜狐报道中国知识产权论坛呼吁降低“品牌逆差”。
图为:搜狐报道中国知识产权论坛呼吁降低“品牌逆差”的网页截图
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